В России впервые созданы отечественные кластерные системы для плазмохимического осаждения (ПХО) и травления (ПХТ), необходимые для выпуска интегральных микросхем по топологическим нормам 65 нм, сообщают «Ведомости». Разработка выполнена научно-исследовательскими институтами НИИМЭ и НИИТМ, входящими в группу компаний «Элемент». Оборудование рассчитано на работу с кремниевыми пластинами диаметром 200 и 300 мм, что соответствует требованиям современных производств.
Обзор смартфона HONOR X9c Smart: прочность со скидкой 
Пять главных фишек камеры HONOR Magic 7 Pro 
Репортаж со стенда HONOR на выставке MWC 2025: передовые новинки и стратегические планы на будущее с ИИ 
Наушники HUAWEI FreeBuds 6, которые понимают жесты 
Обзор смартфона HUAWEI Pura 80: удобный флагман с «Алисой» 
Обзор планшета HONOR Pad V9: нейросети спешат на помощь 
Лучший процессор за 20 тысяч рублей — сравнение и тесты 
Смартфон HUAWEI Mate 70 Pro как выбор фотографа 
Топ-10 смартфонов до 20 тысяч рублей (2025 год) 
Hollow Knight: Silksong — песнь страданий и радостей. Рецензия 
Источник изображения: AI
По заявлению компании, российские институты вошли в число пяти мировых организаций, обладающих компетенциями в создании подобных систем. Основную роль в реализации проекта сыграл НИИМЭ, который обеспечил строительство чистых помещений, монтаж опытных образцов, а также разработку и испытание технологических процессов. НИИТМ, выступивший в качестве ключевого соисполнителя, отвечал за конструирование самого оборудования и участвовал в его испытаниях.
Заместитель министра промышленности и торговли РФ Василий Шпак подчеркнул, что установки для 65-нм техпроцесса на 300-мм пластинах удовлетворяют перспективные потребности отечественной микроэлектроники. Особое значение, по его словам, имеет модульная архитектура платформы, позволяющая внедрять новые процессы на существующих производственных линиях и использовать её как основу для дальнейшего перехода к освоению последующих, более продвинутых технологических норм.
Тут стоит отметить, что мировые лидеры полупроводниковой индустрии освоили 65-нм техпроцесс ещё в 2004 году, а массовое производство чипов на нём стартовало в 2006-м — это были Intel Pentium 4 (Cedar Mill), Intel Core, Core 2 и Core 2 Duo. Но вместе с тем для производства различных микросхем, например простых контроллеров и датчиков, данный техпроцесс используется до сих пор.
Как пояснили в «Элементе», оборудование совместимо как с действующими, так и с будущими производствами, ориентированными на 200-мм пластины. Генеральный директор НИИМЭ Александр Кравцов и гендиректор НИИТМ Михаил Бирюков назвали создание отечественных кластерных систем для ПХО и ПХТ ключевым шагом к технологической независимости российской микроэлектроники.
Одновременно Шпак сообщил 25 ноября о недофинансировании со стороны федеральной программы развития электронного машиностроения на сумму 33,1 млрд рублей. По его данным, финансирование в этом плане сократилось на десятки миллиардов, в связи с чем, к концу 2025 года «отставание в реализации НИОКР достигнет более 60 проектов».
По словам Шпака в 2024 году планировалось выделить на развитие программы 43,3 млрд рублей, но фактически было выделено лишь 23,7 млрд. В 2025 году вместо планируемых 40 млрд рублей реальные расходы составили 15,7 млрд. На 2026 год запланировано 30 млрд рублей, на 2027 и 2028 годы по 25 млрд рублей ежегодно.
Источник: 3Dnews.ru
